Přejít k obsahu


A study on the energy distribution for grid-assisting magnetron sputtering

Citace:
JUNG, M., CHUNG, Y., HOUŠKA, J., BAROCH, P., VLČEK, J., MUSIL, J., NAM, K., HAN, J. A study on the energy distribution for grid-assisting magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 2005, roč. 200, č. 1-4, s. 421-424. ISSN: 0257-8972
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: A study on the energy distribution for grid-assisting magnetron sputtering
Rok vydání: 2005
Autoři: Min. J. Jung , Yun M. Chung , Jiří Houška , Pavel Baroch , Jaroslav Vlček , Jindřich Musil , K.H. Nam , J.G. Han
Abstrakt CZ: Článek popisuje vliv konfigurace depozičního systému na naprášené vrstvy titanu. Ti vrstvy připravené pomocí konvenčního reaktivního magnetronového naprašování mají střední kvadratickou drsnost 6 nm. Oproti tomu magnetronové naprašování titanu s využitím vložených mřížek vede z zrcadlově hladkým povrchům vytvořených vrstev se střední kvadratickou drsností jen 0.6-1.3 nm. TEM snímky na lomu ukázaly sloupcovou strukturu Ti vrstev připravených konvenčním způsobem a jemnou strukturu vrstev připravených s využitím mřižek. Vysvětlením je že vložení mřížek vedlo k zesílení vysokoenergiového chvostu energiového rozdělení bombardujících iontů. Díky většímu množství energie vnesené ionty do vrstvy stoupla pohyblivost deponovaných atomů.
Abstrakt EN: The Ti film deposited by grid-attached magnetron sputtering possesses mirror-like surface RMS roughness of 0.6-1.3 nm. On the other hand, Ti film deposited by conventional magnetron sputtering possesses a steeply increased RMS surface roughness of 6 nm. The cross-sectional TEM micrographs indicated that Ti coating by conventional process was composed of large columnar structures. But Ti coating using two grid-attached magnetron type had a fine structure. By introducing a grid, the energy spectra of ions were characterized by a more extended high energy tail as compared to conventional magnetron sputtering. Therefore, more energetic ion bombardment generally enhances the depositing atom mobility in the case of the grid system as compared to the conventional system.
Klíčová slova

Zpět

Patička