Přejít k obsahu


In-process ZnO thin films doping during pulsed laser deposition

Citace:
BRUNCKO, J., VINCZE, A., MICHALKA, M., NETRVALOVÁ, M. In-process ZnO thin films doping during pulsed laser deposition. In Proceedings of the 17th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter. Žilina: University of Žilina, 2011. s. 69-72. ISBN: 978-80-554-0386-1
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: eng
Anglický název: In-process ZnO thin films doping during pulsed laser deposition
Rok vydání: 2011
Místo konání: Žilina
Název zdroje: University of Žilina
Autoři: Jaroslav Bruncko , Andrej Vincze , Miroslav Michalka , Ing. Marie Netrvalová
Abstrakt CZ: Cíl tohoto článku je představit první z výsledků experimentů zabývajících se hliníkem dopovanými tenkými vrstvami ZnO. Jsou zde prezentovány aplikace dvou různých depozičních modů (ohřívané a chlazené substráty). Dále je zde porovnávána distribuce hliníku v ZnO v závislosti na depozičních parametrech a následném žíhání.
Abstrakt EN: The aim of the paper is to introduce some preliminary results about aluminium doping of ZnO thin films. The application of two different deposition modes (heated or cooled substrates) is presented and distribution of aluminium in ZnO in depenndence of deposition parameters and subsequent annealing is compared.
Klíčová slova

Zpět

Patička