Přejít k obsahu


Rast nanoštrukturovaných TiO2 anatásových vrstiev pomocou pulznej laserovej depozície

Citace:
BRUNCKO, J., VINCZE, A., NETRVALOVÁ, M., MICHALKA, P. Rast nanoštrukturovaných TiO2 anatásových vrstiev pomocou pulznej laserovej depozície. In 15. Škola vákuovej techniky, Zborník príspevkov. Bratislava: Slovenská vákuová spoločnost, 2012. s. 39-43. ISBN: 978-80-971179-0-0
Druh: STAŤ VE SBORNÍKU
Jazyk publikace: sla
Anglický název: Growth of nanostructured anatase TiO2 films by pulsed laser deposition
Rok vydání: 2012
Místo konání: Bratislava
Název zdroje: Slovenská vákuová spoločnost
Autoři: Jaroslav Bruncko , Andrej Vincze , Ing. Marie Netrvalová , Petr Michalka
Abstrakt CZ: Článek je zaměřen na růst nanostrukturovaných anatasových tenkých vrstev TiO2 deponovaných pulsní laserovou depozicí (PLD). Vrstvy byly vytvořeny ve dvou krocích. První krok sestával z růstu pomocí PLD (při pokojové teplotě a 77 K) a druhý krok zahrnoval žíhání při 600 °C po dobu 60 minut. Výsledné vrstvy v původním stavu byly amorfní, porézní při obou depozičních teplotách. Více porózní struktura byla nalezena na vzorcích s chlazeným substrátem. Následné žíhání způsobilo transformaci amorfního stavu do čisté anatasové fáze, což je slibuje vlastnosti pro fotokatalytické aplikace.
Abstrakt EN: The article deals with growth of nanostructured TiO2 anatase thin films deposited by pulsed laser deposition (PLD). The films were prepared by two-steps technology. The first step consisted of growth by PLD (at room temperature or 77 K) and second step included annealing at 600 °C for 60 minutes. Resulted as-deposited films were porous amorphous in both temperatures with finer and more porous structure in cooled substrates. Subsequent annealing caused transformation of amorphous state to pure anatase phase which is promising for photocatalytic applications.
Klíčová slova

Zpět

Patička