Přejít k obsahu


Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges

Citace:
KOZÁK, T., VLČEK, J., KOS, Š. Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges. Journal of Physics D: Applied Physics, 2013, roč. 46, č. 10, s. 1-7. ISSN: 0022-3727
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Transport and ionization of sputtered atoms in high-power impulse magnetron sputtering discharges
Rok vydání: 2013
Autoři: Ing. Tomáš Kozák , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Doc. Mgr. Šimon Kos Ph.D.
Abstrakt CZ: Nestacionární dvouzónový model byl použit k ověření předpovědí stacionárního fenomenologického modelu (Vlček a Burcalová) za podmínek typických pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Je ukázáno, že stacionární fenomenologický model spolehlivě popisuje fundamentální depoziční parametry charakterizující efektivitu depozice při relativně dlouhých pulzech. S ohledem na získané výsledky doporučujeme snížit intenzitu magnetického pole magnetronu při zachování střední výkonové hustoty v pulzu použitím vyššího napětí na magnetronu, a tím dosáhnout zvýšení depoziční rychlosti a zachování nebo zvýšení stupně ionizace rozprášených atomů v toku na substrát.
Abstrakt EN: We use a non-stationary two-zone model to verify predictions of a steady-state phenomenological model (Vlček and Burcalová) under the conditions in typical high-power impulse magnetron sputtering discharges. It is shown that the steady-state phenomenological model provides a reliable description of fundamental deposition parameters characterizing efficiency of magnetron sputtering and the transfer of target material ions to the substrate in these discharges with relatively long steady-state discharge regimes established during pulses. Based on the results, we recommend to lower the magnetic field strength in a magnetron system at a fixed average target power density in a pulse and thereby use a higher magnetron voltage in order to enhance the deposition rate and keep or even increase the ionized fraction of sputtered target material atoms in the flux onto the substrate.
Klíčová slova

Zpět

Patička