Přejít k obsahu


Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson–Mehl–Avrami–Kolmogorov model

Citace:
OČENÁŠEK, J., NOVÁK, P., AGBO, S. Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson–Mehl–Avrami–Kolmogorov model. Journal of Applied Physics, 2014, roč. 115, č. 4, s. 043505-1 - 043505-5. ISSN: 0021-8979
Druh: ČLÁNEK
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Finite-thickness effect on crystallization kinetics in thin films and its adaptation in the Johnson–Mehl–Avrami–Kolmogorov model
Rok vydání: 2014
Autoři: Ing. Jan Očenášek Ph.D. , Ing. Petr Novák Ph.D. , Solomon Nwabueze Agbo Ph.D.
Abstrakt CZ: Johnson–Mehl–Avrami–Kolmogorov (JMAK) model je běžně aplikován pro kvantifikaci kinetiky izotermické krystalizace. Tato práce představuje analytické řešení kinetiky krystalizace pro speciální případ vzorků s deskovou geometrií, jako jsou tenké vrstvy. Výsledkem je modifikovaný JMAK model, který ukazuje, že tloušťky v určitém intervalu významně ovlivňují kinetiku krystalizace. Analytické řešení také určuje intervaly pro tloušťku vrstvy, kde je předpoklad 2D nebo 3D kinetiky přesný. V závěru se práce věnuje důsledkům teorie pro kinetiku rekrystalizace tenkých amorfních křemíkových a nikl-titanových vrstev.
Abstrakt EN: The Johnson–Mehl–Avrami–Kolmogorov (JMAK) model is widely used to quantify the isothermal crystallization kinetics. The present work reports an analytical solution for the crystallization kinetics in the special case of plate-shaped samples with a finite thickness. As a result, we obtained an adapted JMAK model revealing the thickness range which influences the crystallization kinetics mode significantly. The analytical solution also provides theoretical bounds for the film thickness, where the assumption of 2D or 3D kinetics is accurate. Finally, the conclusions related to amorphous silicon and amorphous nickel-titanium thin films are reported.
Klíčová slova

Zpět

Patička