Zpět
Hard Multifunctional Hf-B-Si-C Films Prepared by Pulsed Magnetron Sputtering
| Citace: |
MAREŠ, P., KOHOUT, J., VLČEK, J., HOUŠKA, J., ČERSTVÝ, R., ZEMAN, P., ZHANG, M., JIANG, J., MELETIS, E., ZUZJAKOVÁ, Š. Hard Multifunctional Hf-B-Si-C Films Prepared by Pulsed Magnetron Sputtering. Garmisch-Partenkirchen, Německo, 2014.
|
|---|---|
| Druh: | PŘEDNÁŠKA, POSTER |
| Jazyk publikace: | eng |
| Anglický název: | Hard Multifunctional Hf-B-Si-C Films Prepared by Pulsed Magnetron Sputtering |
| Rok vydání: | 2014 |
| Autoři: | Ing. Pavel Mareš , Mgr. Jiří Kohout , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , Doc. Ing. Petr Zeman Ph.D. , Minghui Zhang , Jiechao Jiang , Efsthathios Meletis , Ing. Šárka Zuzjaková Ph.D. |
| Abstrakt CZ: | Vrstvy Hf-B-Si-C byly deponovány pulsním magnetronovým naprašováním ze složeného terče B4C-Hf-Si v argonu. Zaměřovali jsme se hlavně na vliv Si na materiál. Nakolomnunární vrstvy Hf-B-C připravené bez křemíku vykazovaly vysokou tvrdost 37 GPa a vysokou elektrickou vodivost (elektrická rezistivita byla 1,8×10^-6 Ωm), které doprovázelo vysoké tlakové pnutí 4,9 GPa. Přidáním 1 % Si do erozní zóny terče vznikly velmi texturované nasloupcové vrstvy Hf-B-Si-C vykazující podobně vysokou tvrdost, ale nižší tlakové pnutí 1,8 GPa. Dalším navýšením Si v erozní zóně na 7,5 % vzniká nanokompozitní vrstva Hf-B-Si-C s tvrdostí 37 GPa, s nízkým tlakovým pnutím 0,9 GPa a se zvýšenou oxidační odolností ve vzduchu (nárůst hmotnosti po vyžíhání na 800 ºC byl méně než 0,03 mg/cm^2). Nejvyšší oxidační odolnosti (téměř žádná hmotnostní změna po vyžíhání na 800 ºC) bylo dosaženo pro amorfní vrstvy Hf-B-Si-C připravené při 30 % Si v erozní zóně terče. |
| Abstrakt EN: | Hf–B–Si–C films were deposited using pulsed magnetron co-sputtering of a single B4C–Hf–Si in pure argon. We focus on the effect of the Si content. We found that the nanocolumnar Si-free Hf–B–C films exhibit a high hardness of 37 GPa and a high electrical conductivity (electrical resistivity of 1.8×10^-6 Ωm), accompanied by a high compressive stress of 4.9 GPa. The highly textured nanocolumnar Hf–B–Si–C films prepared at 1% Si fraction in the target erosion area exhibit a similar high hardness at a lower compressive stress of 1.8 GPa. A further increase in the Si fraction in the target erosion area to 7.5% results in a formation of nanocomposite Hf–B–Si–C films with a high hardness of 37 GPa, a low compressive stress of 0.9 GPa and significantly improved oxidation resistance in air (mass gain after annealing to 800 ºC is below 0.03 mg/cm^2). The highest oxidation resistance in air (almost no mass change after annealing up to 800 ºC) was achieved for the amorphous Hf–B–Si–C films prepared at 30% Si fraction in the target erosion area. |
| Klíčová slova |
Zpět