Přejít k obsahu


Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů

Citace:
KŘENEK, T., POLA, M. Laserová deposice titanosilikátových povlaků na porézní titanové povrchy – vytváření Ti-Si porézních povrchů z práškových materiálů. 2016.
Druh: PROTOTYP, FUNKČNÍ VZOREK
Jazyk publikace: cze
Anglický název: Titanium-silicate laser deposition coatings on titanium porous surfaces - creating Si/Ti-porous surfaces from powder materials
Rok vydání: 2016
Název zdroje: Západočeská univerzita v Plzni
Autoři: Ing. Tomáš Křenek Ph.D. , Michal Pola
Abstrakt CZ: V návaznosti na předchozí činnost (deposice TiOx a SiOx nanostruktur) byla v UCHP a ZČU provedena TEA CO2 a Nd:YAG laserová ablativní deposice směsi TiO a SiO, protože takový postup by mohl zkrátit dobu potřebnou na vytváření katalytických center původně plánovanými odděleně probíhajícími deposicemi TiO a SiO. Výsledky prokazují, že ablativní deposice z ekvimolární TiO-SiO směsi účinkem laseru vede k tvorbě filmů bohatých na frakci SiO, ve které je obsah TiO jen několik procent. Účinkem záření ArF laseru však dochází ke kongruentní deposici SiO-TiO filmu.
Abstrakt EN: In relation to previous work (deposition of SiOx and TiOx nanostructures), TEA CO2 and Nd:YAG laser ablation deposition of mixture of TiO and SiO was performed in UCHP and ZČU, because such a procedure could reduce the time required to create catalytic centers originally planned for separately ongoing deposition of TiO and SiO. The results show that ablative deposition of an equimolar mixture of TiO and SiO results in the formation of films rich in SiO fraction, in which the content of TiO is only a few percent. However, there is a congruent deposition of SiO-TiO film by ArF laser radiation effect
Klíčová slova

Zpět

Patička