Přejít k obsahu


Pathway for a low-temperature (250 °C) deposition of thermochromic VO2 without substrate bias voltage

Citace:
HOUŠKA, J., KOLENATÝ, D., REZEK, J., VLČEK, J. Pathway for a low-temperature (250 °C) deposition of thermochromic VO2 without substrate bias voltage. Boston, USA, 2017.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Pathway for a low-temperature (250 °C) deposition of thermochromic VO2 without substrate bias voltage
Rok vydání: 2017
Autoři: Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. David Kolenatý , Ing. Jiří Rezek Ph.D. , Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc.
Abstrakt CZ: Příspěvek se zabývá termochromickým VO2 připraveným pomocí reaktivního vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování a charakterizovaným pomocí spektroskopické elipsometrie. Soustředíme se na způsob přípravy, na disperzi optických konstant v širokém rozsahu teplot, a na z nich plynoucí transmitanci. Zatímco termochromické chování VO2 jako takové je známo (zejména nad pokojovou teplotou, RT), v tomto příspěvku prezentujeme (i) optické vlastnosti dosažené při nízké depoziční teplotě 250 °C (Si substrát) - 300 °C (skleněný substrát) a bez předpětí na substrátu (což dramaticky zvyšuje aplikační potenciál těchto povlaků) a (ii) změny těchto vlastností nejen nad, ale také pod RT (až k -30 °C). Výsledky jsou důležité pro design termochromických povlaků, a cest pro jejich přípravu za podmínek vhodných pro průmysl, pro nejrůznější technologické aplikace.
Abstrakt EN: The contribution deals with thermochromic VO2 prepared by reactive high-power impulse magnetron sputtering and characterized by spectroscopic ellipsometry. We focus on the deposition procedure, on the dispersion of optical constants in a wide temperature range, and on the transmittance predicted using the optical constants. While the thermochromic behavior of VO2 in itself has been reported previously (particularly above the room temperature, RT), in this contribution we present (i) optical properties achieved at a low deposition temperature of 250 °C (Si substrate) - 300 °C (glass substrate) and without any substrate bias voltage (which dramatically increases the application potential of the coating) and (ii) changes of these properties not only above but also below RT (down to -30 °C). The results are important for the design of thermochromic coatings, and pathways for their preparation under industry-friendly conditions, for various technological applications.
Klíčová slova

Zpět

Patička