Přejít k obsahu


Distribution of O Atoms on Partially Oxidized Metal Surfaces According to Ab-initio Calculations, and the Consequences for Sputtering of Individual Metal Oxides

Citace:
HOUŠKA, J., KOZÁK, T. Distribution of O Atoms on Partially Oxidized Metal Surfaces According to Ab-initio Calculations, and the Consequences for Sputtering of Individual Metal Oxides. San Diego, USA, 2018.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Distribution of O Atoms on Partially Oxidized Metal Surfaces According to Ab-initio Calculations, and the Consequences for Sputtering of Individual Metal Oxides
Rok vydání: 2018
Autoři: Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Tomáš Kozák Ph.D.
Abstrakt CZ: Studujeme oxidaci vybraných kovových (Al, Ag, Cu, Ti, Zr, Hf) povrchů pomocí teorie funkcionálu hustoty. Prošli jsme široký rozsah (235 pro každý kov) způsobů rozložení atomů O na částečně zoxidovaném kovovém povrchu. Nejprve se soustředíme na kvalitativní informaci, zda je preferované rozložení atomů O heterogenní (stechiometrický oxid + kov) nebo homogenní (podstechiometrický oxid). Ukážeme, že první možnost je energeticky preferovaná např. pro Al, zatímco druhá možnost je energeticky preferovaná např. pro Ti, Zr a Hf. Následně kvantifikujeme adsorpční energie odpovídající energeticky preferovaným rozložením atomů O v závislosti na pokrytí povrchu pro jednotlivé kovy. Na závěr ukážeme a diskutujeme příklad implikací získaných poznatků pro porozumění rozprašování a pro jeho simulace.
Abstrakt EN: We investigate the oxidation of selected metal (Al, Ag, Cu, Ti, Zr, and Hf) surfaces by the density functional theory. We go through a wide range (235 per metal) of distributions of O atoms on a partially oxidized metal surface. First, we focus on the qualitative information whether the preferred distribution of O atoms is heterogeneous (stoichiometric oxide-metal) or homogeneous (substoichiometric oxide). We find that the former is energetically preferred, e.g., for Al, while the latter is energetically preferred, e.g., for Ti, Zr, and Hf. Second, we provide the quantitative values of adsorption energies corresponding to the energetically preferred O atom distributions for various partial coverages of various metals by O. Third, we discuss and show an example of implications of the aforementioned findings for the understanding and simulations of sputtering.
Klíčová slova

Zpět

Patička