Přejít k obsahu


Controlled reactive HiPIMS – effective technique for low-temperature deposition of functional oxide films

Citace:
VLČEK, J., KOLENATÝ, D., HOUŠKA, J. Controlled reactive HiPIMS – effective technique for low-temperature deposition of functional oxide films. Würzburg, Německo, 2018.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Controlled reactive HiPIMS – effective technique for low-temperature deposition of functional oxide films
Rok vydání: 2018
Autoři: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Ing. David Kolenatý , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D.
Abstrakt CZ: Reaktivní vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování se zpětnovazebním pulzním řízením průtoku reaktivního plynu a optimalizovaným umístěním přívodu reaktivního plynu do oblasti vysoce zahuštěného plazmatu před rozprašovaný kovový terč (V nebo Hf) umožnilo připravit termochromické vrstvy VO2 za nízké teploty (300 °C) na konvenční sodnovápenaté sklo bez jakéhokoliv předpětí na substrát a mezivrstvy, a densifikované opticky transparentní stechiometrické vrstvy HfO2 při vysoké depoziční rychlosti (až 200 nm/min) bez přidaného předpětí na substrát při teplotě substrátu menší než 140 °C. Uvádíme zde základní principy této efektivní depoziční techniky s vysokým aplikačním potenciálem.
Abstrakt EN: Reactive high-power impulse magnetron sputtering with a feedback pulsed O2 flow control and to-substrate O2 injection into a high-density plasma in front of the sputtered metal (V or Hf) target was used for low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films onto conventional soda-lime glass substrates without any substrate bias voltage and without any interlayer, and for high-rate deposition (up to 200 nm/min) of densified, optically transparent, stoichiometric HfO2 films onto floating substrates at the substrate temperatures less than 140 °C. We give the basic principles of this effective deposition technique with a high application potential.
Klíčová slova

Zpět

Patička