Přejít k obsahu


Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al‒O‒N films with tunable composition and properties

Citace:
VLČEK, J., BELOSLUDTSEV, A., HOUŠKA, J., ČERSTVÝ, R., HAVIAR, S. Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al‒O‒N films with tunable composition and properties. Sheffield, Velká Británie, 2018.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al‒O‒N films with tunable composition and properties
Rok vydání: 2018
Autoři: Prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Alexandr Belosludtsev , Doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D.
Abstrakt CZ: Modifikovaná verze vysokovýkonového pulzního magnetronového naprašování se zpětnovazebním pulzním řízením průtoku reaktivního plynu (kyslíku a dusíku) a s optimalizovaným umístěním (do plazmatu o vysoké hustotě) přívodu reaktivních plynů před terč a orientací směrem k substrátu umožnila připravit kvalitní Al‒O‒N vrstvy s laditelným prvkovým složením, strukturou a vlastnostmi. Ukazujeme zde základní principy této metody maximalizující stupeň disociace jak kyslíkových tak dusíkových molekul ve výbojovém plazmatu, které nahrazují různě reaktivní kyslíkové a dusíkové molekuly (reaktivita s kovovými atomy na povrchu rostoucí vrstvy) podobně reaktivními kyslíkovými a dusíkovými atomy.
Abstrakt EN: In this work, a modified version of HiPIMS, called Deep Oscillation Magnetron Sputtering, with a feedback pulsed reactive gas (oxygen and nitrogen) flow control and an optimized location (high-density plasma) of the reactive gas inlets in front of the target and their orientation toward the substrate made it possible to produce high-quality Al‒O‒N films which a tunable elemental composition, structure and properties. We give the basic principles of this method, maximizing the degree of dissociation of both O2 and N2 molecules in a discharge plasma, which leads to a replacement of very different reactivities of the O2 and N2 molecules with metal atoms on the surface of growing films by similar (high) reactivities of atomic O and N.
Klíčová slova

Zpět

Patička