Přejít k obsahu


Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al–O–N films with tunable composition and properties

Citace:
VLČEK, J., BELOSLUDTSEV, A., HOUŠKA, J., HAVIAR, S., ČERSTVÝ, R. Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al–O–N films with tunable composition and properties. Kanazawa, Japonsko, 2019.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: Reactive deep oscillation magnetron sputtering of Al–O–N films with tunable composition and properties
Rok vydání: 2019
Autoři: prof. RNDr. Jaroslav Vlček CSc. , Alexandr Belosludtsev , doc. Ing. Jiří Houška Ph.D. , RNDr. Stanislav Haviar Ph.D. , Ing. Radomír Čerstvý
Abstrakt CZ: Oxynitridy patří do skupiny s ještě neprobádanými fyzikálními, chemickými a funkčními vlastnostmi a velkým potenciálem pro průmyslové aplikace. Práce se zabývá vytvářením vrstev Al–O–N s laditelnými vlastnostmi a složením pomocí reaktivní vysokovýkonové pulzní magnetronové depozice s velmi krátkými napěťovými pulzy, tzv. DOMS (deep oscillation magnetron sputtering) a pulzního řízení průtoku reaktivních plynů se vstřikováním reaktivních plynů umístěným před terčem směrem k substrátu do oblasti hustého plazmatu. Popsány jsou základní principy metody, zvýšení disociace O2 a N2 molekul ve výbojovém plazmatu vedoucí k produkci jednotlivých atomů O a N, které mají mnohem vyšší reaktivitu s kovovými atomy na povrchu rostoucích vrstev.
Abstrakt EN: Oxynitrides are a class of materials with yet unexplored physical, chemical and functional properties, and a great potential for industrial applications. In this work, a modified version of HiPIMS, called Deep Oscillation Magnetron Sputtering, with a feedback pulsed reactive gas (oxygen and nitrogen) flow control and an optimized location (high-density plasma) of the reactive gas inlets in front of the target and their orientation toward the substrate made it possible to produce high-quality Al–O–N films with a tunable elemental composition, structure and properties. We give the basic principles of this method, maximizing the degree of dissociation of both O2 and N2 molecules in a discharge plasma, which leads to a replacement of very different reactivities of the O2 and N2 molecules with metal atoms on the surface of growing films by similar (high) reactivities of atomic O and N.
Klíčová slova

Zpět

Patička