Přejít k obsahu


New sputtering technology based on strongly non-equilibrium process

Citace:
KOS, Š., MUSIL, J. New sputtering technology based on strongly non-equilibrium process. Malmö, Švédsko, 2019.
Druh: PŘEDNÁŠKA, POSTER
Jazyk publikace: eng
Anglický název: New sputtering technology based on strongly non-equilibrium process
Rok vydání: 2019
Místo konání: Malmö, Švédsko
Autoři: doc. Mgr. Šimon Kos Ph.D. , prof. Ing. Jindřich Musil DrSc.
Abstrakt CZ: Silně nerovnovážné procesy na atomární úrovni v nové naprašovací technologii jsou: (1) ohřev na vysoké teploty bez pomalého zahřívání substrátu, (2) vysoké tlaky (> 1000 GPa) při tvorbě povlaku a (3) extrémně rychlé chlazení (> 10^10 K/s) naneseného materiálu. Princip této technologie je objasněn. Užití této technologie pro tvorbu pokročilých povlaků s novými jedinečnými vlastnostmi je prokázána naprašováním následujících povlaků: (1) povlaky slitin s vysokoteplotními beta fázemi naprášenými při nízkých teplotách blízko pokojové teplotě, (2) nadstechiometrické nitridy, které vykazují vysokou tvrdost díky přítomnosti jednoduše vázaných pernitridových strukturních skupin, a (3) supertvrdé ohebné titanové povlaky s vysokou tvrdostí (do 20 GPa) několikrát vyšší než u objemového titanu. Tato technologie může být použitá nejen na velké plochy, ale též na složité tvary, a tudíž má vysoký aplikační potenciál.
Abstrakt EN: Strongly non-equilibrium processes used at an atomic level in a new sputtering technology of thin films and coatings are: (1) heating to high temperatures without slow substrate heating, (2) high pressures (> 1000 GPa) used in the coating formation, and (3) extremely fast cooling (> 10^10 K/s) of the created coating material. The principle of this technology is explained. The utilization of this technology for creation of advanced coatings with new unique properties is demonstrated in sputtering of the following coatings: (1) alloy coatings with high-temperature beta-phase sputtered at low temperatures close to room temperature, (2) overstoichiometric nitrides which exhibit high hardness due to the presence of the singly bonded pernitride structural unit, and (3) superhard flexible Ti coatings with high hardness (up to 20 GPa) several times higher than that of the bulk Ti metal. The technology may be used for depositions not only on large areas such as sheets but also on parts of complex shapes, and hence it has a high application potential.
Klíčová slova

Zpět

Patička