Zpět
Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability
Citace: |
VLČEK, J., HOUŠKA, J., HŘEBEN, S., ČAPEK, J., ZEMAN, P., ČERSTVÝ, R. Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability. In 5th Symposium on Functional Coatings and Surface Engineering. [Montreal]: [École Polytechnique de Montreal, Department of Physics], 2008. s. 49-49.
|
---|---|
Druh: | STAŤ VE SBORNÍKU |
Jazyk publikace: | eng |
Anglický název: | Hard amorphous Si-B-C-N films with ultra-high thermal stability |
Rok vydání: | 2008 |
Místo konání: | [Montreal] |
Název zdroje: | [École Polytechnique de Montreal, Department of Physics] |
Autoři: | Jaroslav Vlček , Jiří Houška , Stanislav Hřeben , Jiří Čapek , Petr Zeman , Radomír Čerstvý |
Abstrakt CZ: | Vrstvy Si-B-C-N byly připraveny na substráty Si a SiC za použití dc magnetronového rozprašování z terče C-Si-B nebo B4CSi v dusíko-argonové atmosféře. Bylo zjištěno, že tyto vrstvy mají amorfní nanostrukturu, velmi hladký povrch a dobrou adhezi k různým substrátům (Si, SiC, sklo a ocel) při nízkém tlakovém pnutí (1,0-1,6 GPa). Dále tyto vrstvy vykazovaly vysokou tvrdost (do 45 Gpa), vysoké elastické zotavení, optickou transparentnost, velmi vysokou odolnost proti opotřebení a hlavně extrémně vysokou oxidační odolnost ve vzduchu (dokonce nad 1500 °C) a stabilitu amorfního stavu (do teploty 1700 °C-limit termogravimetru). |
Abstrakt EN: | The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co-sputtering using single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. The films obtained were found to be amorphous in nanostructure with very smooth surface and good adhesion to various substrates (Si, SiC, glass and steel) at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa). They exhibited high hardness (up to 45 GPa), high elastic recovery, optical transparency, very high wear resistance, particularly extremely high oxidation resistance in air (even above 1500 °C), and high stability of the amorphous state (up to a 1700 °C limit). |
Klíčová slova |
Zpět